清洗阻垢分散剂清洗阻垢分散剂
的详细介绍
清洗阻垢分散剂，阻垢缓蚀剂，清洗分散剂 阻垢缓蚀剂的作用 阻垢分散剂（春节大酬宾买一送一） 阻垢剂的作用：1、有机膦系列阻垢剂,ATMP具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸变作用。可阻止水中成垢盐类形成水垢，特别是碳酸钙垢的形成。ATMP在水中化学性质稳定，不易水解。在水中浓度较高时，有良好的缓蚀效果。 HEDP是一种有机膦酸类阻垢缓蚀剂，能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物，能溶解金属表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用，在高pH下仍很稳定，不易水解，一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机膦酸（盐）好。 EDTMPS是含氮有机多元膦酸，属阴极型缓蚀剂，与无机聚磷酸盐相比，缓蚀率高3～5倍。能与水混溶，无毒无污染，化学稳定性及耐温性好，在200℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能离解成8个正负离子，因而可以与多个金属离子螯合，形成多个单体结构大分子网状络合物，松散地分散于水中，使钙垢正常结晶被破坏。EDTMPS对硫酸钙、硫酸钡垢的阻垢效果好。 EDTMPA具有很强的螯合金属离子的能力，与铜离子的络合常数是包括EDTA在内的所有螯合剂中*大的。EDTMPA为高纯试剂且无毒，在电子行业可作为半导体芯片的清洗剂用于制造集成电路；在医药行业作放射性元素的携带剂，用于检查和****；EDTMPA的螯合能力远超过EDTA和DTPA，几乎在所有使用EDTA作螯合剂的地方都可用EDTMPA替代。
阻垢分散剂价格表 的详细介绍 阻垢分散剂 阻垢分散剂价格表 阻垢分散剂 阻垢分散剂生产厂家 一、有效控制无机盐垢、金属氧化物和胶体沉积 ①碳酸钙②硫酸钙③磷酸钙④硫酸锶⑤硫酸钡⑥铝⑦胶体⑧铁 适用于各种类型膜和系统组件适用于进水硅含量(以SiO2)≤10ppm在极端pH和温度条件下，性能保持稳定非磷和非磷衍生物 配方，不会引起金属沉积和微生物生长ANSI／NSF Standard 60饮用水标准认证。 二、阻垢分散剂价格表 阻垢分散剂 阻垢分散剂生产厂家产品概况 ASD 200TM阻垢分散剂通过有效控制由无机盐、金属氧化物和胶体引起的膜分离系统结垢和沉积，*大限度延长膜系统的清 洗周期。与聚丙烯酸均聚物、丙烯酸/马来酸共聚物以及聚丙烯酰胺／丙烯酰胺共聚物相比，ASD200TM在提供同水平处理效果的 同时,处理成本更加经济。ASD 200TM可在水中迅速完全溶解，适用于各种类型膜和系统组件。ASD200TM,在金属存在的情况下， 仍然保持性能稳定。ASD 200TM常规的投加浓度在2-5ppm标准浓度溶液，它可以与所有PWT的膜处理化学品包括**剂BioGuard ACSTM混合使用。同点投加。PWT的专用药剂软件ProDose32,根据系统运 行参数和进水水质指标，可计算出准确的加药量。即使 在高投加浓度的情形下。ASD200TM也不会沉积、结晶和堵塞膜，因此，若发生药剂投加过量时，不会对膜带来伤害。ASD 200TM是非磷和非磷衍生物配方，不会引起储槽、管道和膜分离系统的金属沉积和微生物生长。ASD 200TM符合ANSI／NSF Standard 60标准,可用于饮用水系统。 三、物化指标 外观 无色透明液体 PH（5%水溶液） 3.0-4.0 挥发性 无 四、包装 本品为标准浓度溶液，采用20公斤/桶包装。
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